中芯国际续单ASML光刻机后 国产光刻胶迎重大进展

发布时间:2022年06月16日

       周一(8日)收盘后, 上海信阳宣布, 经各方积极协商运作, ASML-1400光刻机设备已进入合作伙伴北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司现场。进行安装调试等相关工作。
       公司采购的ASML干法光刻设备的顺利交付, 对193nm ArF干法光刻产品的开发产生了积极影响。值得注意的是, 天眼查数据显示, 合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司的股东为核心链融创集成电路产业发展(北京)有限公司,

其共同出资。
       国内26家半导体企业。
       组建后, 包括北京鼎石半导体有限公司, 北京亦庄和中芯国际的股权比例分别为25%和25%, 排名第二。
       项目成立4年来屡遭挫折, 国产替代浪潮终于初露端倪。对于上海信阳本身来说, ASML干式光刻设备的顺利交付意义重大。公开资料显示, 早在2016年底, 上海信阳就已经开始研发193nm干法光刻胶, 但在随后的研发过程中, 进展屡屡受挫。 2017年3月, 上海新阳与上海亿娜共同投资成立新科微, 从事193nm干法高端光刻胶产品的研发和产业化, 但两家公司于次年5月终止合作;同年12月, 两家公司以自有资金投资江苏博彦电子科技有限公司, 拥有博彦电子有限公司10%的股权, 主要从事和R电子成功。同时, 公司与博研电子具有一定的产业协同效应, 认为公司最有可能在集成电路高端光刻胶领域率先实现实质性突破。 ASML国产高端光刻胶关键设备已发布, 并不断取得突破。去年以来, 国产替代浪潮席卷半导体行业, 光刻胶作为半导体光刻工艺的核心材料, 决定了半导体拉制工艺的程度和良率, 成为最受瞩目的环节之一。 2015年12月17日, 南大光电宣布, 控股子公司宁波南大光电自主研发的193nm ArF光刻胶产品顺利通过客户使用证, 标志着国内通过产品验证的国产ArF光刻胶产品诞生, 标志着长期被国外垄断的ArF光刻胶终将国产化。根据工艺路线的不同, 半导体光刻胶可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶以及G线和i线光刻胶。
       前三种光刻胶属于高端产品。行业资讯网的数据显示, 到2019年, 国产g/i线光刻胶的自给率只有20%, 而KrF光刻胶的自给率不到5%, 而KrF光刻胶完全进口.国内高端光刻胶产品难以替代的背后,

是国内企业在研发过程中对高端光刻胶的依赖程度很高。因为光刻胶的研发需要相应光刻机的支持, 量产后需要在光刻机上不断调试。而且光刻机价格昂贵, 国内半导体材料公司买不起, 因为这种高端光刻胶基本被日本、欧美垄断。本月3日, 中芯国际宣布与荷兰光刻机制造商ASML签订12.02亿美元的采购合同。此外, 科创板日报1日获悉, 为中芯国际提供高工艺(14nm及以上)工艺元件所需设备的美国设备制造商已获得美国许可。针对这一情况, 华金证券沪辉集团3月7日发布报告称, 中芯国际对14nm及以上成熟工艺的禁令有所松动, 表明我国大陆晶圆代工龙头在成熟工艺方面的发展前景堪忧。更清晰。未来, 美国设备供应商有望获得更多供应许可证。中金鹏虎团队同日的报告也指出, 半导体设备和材料是发展高端制造的基础。在获得美国设备许可证的同时, 中芯国际建议重点关注上游设备和原材料。此外, 据华泰证券胡健团队2020年11月18日报道, 在半导体供应链安全日益受到重视的背景下, 国产光刻胶的研发和量产或将加速, 国内制造商计划扩大日本和美国的垄断。投资半导体光刻胶领域, R不断突破

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